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MicroLine-300是一款桌上型半自动CD测量系统 详细说明 |
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主要技术参数:
◆    测量范围(XYZ):标准:200×200×25mm;可选:300x300x25 ◆    视场内测量精度:10nm(100X 镜头);Z轴ju jiao范围:25 mm ◆    视场内测量范围:0.5um~400um; ◆    视场内测量重复性(100x 物镜):  晶圆上<0.010um(1δ);                                                     掩模板上0.005um(1δ);    ◆    承重:2kg ◆    标配镜头10x,可选镜头:5X, 20X, 50X, 100X
MicroLineTM 300是一款高性能测量晶圆、光罩、MEMS和其他微加工设备等关键尺寸的自动化测量系统。该系统配备了高质量光学显微镜和精密移动平台,可对200mm的晶圆上0.5μm到400μm的特征尺寸进行全自动的精密视场测量。
n  200 x200mm精密X-Y平台 n  基于视觉的自动ju jiao获得某佳影像质量 n  自动照明可编程光强 n  用于测量透明层、不规则边缘的线、厚膜等的强劲性能 n  完全可编程的序列,包括自动ju jiao和关键尺寸测量 n  电动的6目物镜转换器,软件控制 n  可选的透射照明 技术规格: - 测量行程: 200 x 200 x25mm(XYZ) - 平台运行: 交叉滚轴手动同轴定位和快速释放 - 视场内的测量精度: 0.010μm (用100x物镜) - 特征尺寸: 视场内0.5μm - 400μm - FOV测量重复性: <0.010μm on wafers (用100x物镜) <0.005μm on photomasks (用100x物镜) - 照明: 石英卤素灯, 反射光       自动照明 - 低噪音CCD VGA格式摄像头 - 图像处理60帧每秒 MicroLine 300的典型应用包括: l  晶圆 l  光罩 l  MEMS l  微型组件 测量类型: n  关键尺寸: 线宽  Linewidth 节距  Pitch 间隙  Spacing n  Overlay             Multi-layer registration Box in box Circle Edge roughness Butting error
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