碳化硅氧化炉真空退火炉高温扩散炉青岛晨立电子有限公司

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发布时间：

2024/11/22 9:42:00

碳化硅氧化炉真空退火炉高温扩散炉青岛晨立电子有限公司详细说明

主要技术指标：

★可处理硅片尺寸：2—8英寸
★外型形式：卧式1—4管结构
★工作温度：200℃—1300℃
★恒温区长度及精度：200mm—1100mm≤±0.5℃
★单点温度稳定性、重复性：≤±0.5℃／24h
★温度斜变：可控升温速率20℃／min，
★可控降温速率：5℃／min
★送片装置：全自动悬臂推拉舟、拉杆是推拉舟、手动推拉
★气路系统：1—5路工艺气体／管
★气体控制：全自动MFC、手动浮子流量计
★控制方式：工控机、触摸屏

青岛晨立电子有限公司主要产品：高低温扩散炉、实验炉、共晶炉、烧结炉、加磁炉、高精度智能温度控制系统和替代进口的扩散炉炉体等，同时承接各种微电子生产线，进口半导体专用设备的翻新升级改造及各大专院校科研院所的非标研发定制工作。

本产品网址：http://www.vooec.com/sjshow_507802898/
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产品名称：碳化硅氧化炉真空退火炉高温扩散炉青岛晨立电子有限公司

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