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发布时间：

2024/11/26 11:26:00

科研设备科研仪器设备科研专用加热设备晨立专业设计定制详细说明

科研炉是半导体加工中的典型热处理设备，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件、光导纤维等行业中进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。

主要技术参数：
◆工艺管数量：1-4管
◆工艺管口径：Φ90-360mm（3～12英寸）
◆工作温度范围：400～1280℃
◆恒温区长度及精度±0.5℃/1080mm
◆工艺均匀性:≤±5％（30~60欧姆）

◆结构型式：卧式热壁型
◆气体流量设定精度:±1％F.S
◆气路系统气密性： 1×10-7pa.m3/s
◆超净工作台：净化等级：100级（万级厂房）噪音：≤62dB（A）震动：≤3μm
◆记录工艺曲线数量及工艺步数不受限制
◆控制方式：工业微机控制
本产品网址：http://www.vooec.com/sjshow_507793434/
手机版网址：http://m.vooec.com/trade_507793434.html
产品名称：科研设备科研仪器设备科研专用加热设备晨立专业设计定制

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科研设备 科研仪器设备 科研专用加热设备 晨立专业设计定制

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