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| 您现在的位置： 北京维意真空技术应用有限责任公司 > 供应信息> ALD真空设备 |
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| 发布时间： |
2024/11/21 12:26:00 |
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在原子层沉积（ALD）工艺中，选择合适的前驱体对工艺控制、薄膜性能等方面至关重要。同时根据前驱体特性，如性状、挥发性等，配以合适的源瓶则会对工艺有协同效应。我司除在前驱体研制方面充分发挥技术优势外，还在ALD源瓶的设计和加工方面积累的丰富经验。我们竭诚为广大客户提供各类专一的源瓶。找ALD源瓶，优选“维意真空”......
在原子层沉积（ALD）工艺中，选择合适的前驱体对工艺控制、薄膜性能等方面至关重要。同时根据前驱体特性，如性状、挥发性等，配以合适的源瓶则会对工艺有协同效应。我司除在前驱体研制方面充分发挥技术优势外，还在ALD源瓶的设计和加工方面积累的丰富经验。我们竭诚为广大客户提供各类专一的源瓶。找ALD源瓶，优选“维意真空”......
本产品网址：http://www.vooec.com/sjshow_490238295/
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产品名称：ALD真空设备 |
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