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CMP抛光液，研磨液，抛光液，半导体抛光液，抛光垫
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| 发布时间：
2012/12/19 14:03:00 |
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电 话： |
86-0769-22368990 |
| 传 真： |
86-0769-22368991 |
| 手 机： |
15811839462 |
| 邮 编： |
523000 |
| 地 址： |
东莞市莞城区旗峰路162号中侨大厦B座809 |
| 网 址： |
http://runming.cn.vooec.com |
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| 公司名称：东莞润明电子科技有限公司 |
| 联 系 人：李先生 先生 |
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CMP抛光液，研磨液，抛光液，半导体抛光液，抛光垫 详细说明 |
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东莞润明电子科技有限公司专业生产、销售用于平面精密研磨高科技产业相关零配件的企业，我公司配合国外厂商的技术支援，共同开发适合平面研磨技术、半导体及光电产业使用的各式耗材。随着近几年电子、半导体产业不断发展壮大，我公司自主生产研发的相关耗材可替代进口产品，在日本、韩国磨床上稳定使用，我们也随着客户一起成长，在这个过程中不断增加产品种类，拓宽产品渠道，优化配套服务以满足客户更高的要求。
产品适用范围：
LED芯片蓝宝石衬底，半导体晶圆，硅片，光纤接口，泵元件，液晶玻璃，石晶片底，相机镜头，复印机反光镜，记录光盘，水晶玻璃制品，显微镜载玻片，反光镜，发动机配件，印刷电路板，垫片，压缩机配件，刀片，活塞环，阀门板，轴承圈，散热片，刹车片，起阀器，压缩硬盘模板，宝石等。
经营范围：制造销售设备类：平面研磨机.平面抛光机.双面研磨机.双面抛光机.金相研磨机.横向研磨机.
消耗品类: 1: 研磨液:化学抛光液、润滑液
2: 研磨盘:合成铁盘.合成铜盘.锡盘.纯锡盘
3: 抛光垫、抛光布.水性研磨膏.
4: 来料加工类：五金零件.光学晶体材料.产品的平面研磨抛光加工
日本秀和（shuwa）& NTS & WEC 凯勒斯& Engis专业研磨耗材,研磨设备供应商
砂轮：（SD230N ）尺寸（150D-15W-5X-32T-M12）应用设备为：
日本秀和，Techedia ,NTS （3片机/5片机/8片机），外径150mm/175mm/184mm
定盘修盘器：（陶瓷结构）使用设备为日本秀和（shuwa），WEC，NTS。
陶瓷盘抛光液/研磨液：（水溶性/油性）6UM& 3UM；速率稳定！
使用设备为日本秀和（shuwa）& NTS & WEC 凯勒斯& Techedia。
抛光粉（Fujimi F01200，WA-2000，WA-4000）固态腊，去腊液，冷却液
金字塔研磨盘/合成锡盘、合成铜盘
专业工厂从事一系列高品质的精密单、双面研磨机、镜面抛光机的生产与销售；还根据客户制程要求的特性，供应各类研磨抛光耗材与技术服务以及设备与耗材的磨合调试及技术指导。是整合研磨产业所需的设备、部件、耗材以及技术支持、咨询开发为一体的现代工业高端科技服务供应商。
本产品网址：http://www.vooec.com/cpshow_10087685/
手机版网址：http://m.vooec.com/product_10087685.html
产品名称：CMP抛光液，研磨液，抛光液，半导体抛光液，抛光垫 |
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